2013年，西泠印社將迎來創(chuàng)立110年華誕。為秉承“保存金石、研究印學(xué)，兼及書畫”之宗旨，彰顯西泠印社近年來提倡詩書畫印博通兼能的理念，進(jìn)一步推動西泠印社學(xué)術(shù)研究的深入，促進(jìn)印學(xué)及相關(guān)學(xué)科的學(xué)術(shù)資源整合，西泠印社擬于2013年秋 110年社慶期間，在杭舉辦國際學(xué)術(shù)研討會，同期還將舉行饒宗頤社長專題學(xué)術(shù)研討活動（將另函征稿）。

      本次國際學(xué)術(shù)研討會論題范圍涵蓋書法、繪畫、印學(xué)和金石學(xué)等領(lǐng)域，包括古璽印、文人篆刻藝術(shù)與印人印派、篆刻技法與審美、金石學(xué)與印學(xué)文獻(xiàn)、西泠印社史以及古代書畫研究等方面（其中書畫研究建議選取與印學(xué)、金石學(xué)及西泠印社相關(guān)的選題）。研討論文將編印成集，正式出版。本次研討會將是近年來西泠印社舉辦的學(xué)科涵蓋面最廣的一次研討活動，旨在拓展學(xué)術(shù)研究視野，促進(jìn)多學(xué)科領(lǐng)域研究方法的交叉和成果共享交流。

      本次研討會特設(shè)評獎程序，除特約稿外，來稿論文將經(jīng)評審委員會評審，選出優(yōu)秀論文一、二、三等獎共20篇，頒發(fā)獲獎證書。獲優(yōu)秀論文一、二等獎的社外作者，將評鑒其既往已發(fā)表學(xué)術(shù)成果情況，擇優(yōu)推薦至社長會議，經(jīng)審定通過者直接吸收為西泠印社社員。評委及特約專家之論文不參加評獎。

誠望海內(nèi)外書畫篆刻及相關(guān)研究領(lǐng)域?qū)W者踴躍賜稿。

投稿論文要求：

1、來稿字?jǐn)?shù)以6000左右為宜、不超過10000字，電子稿尤佳，并附論文提要、關(guān)鍵詞、作者簡介和詳細(xì)通訊地址；

2、來稿引文注釋需翔實(shí)規(guī)范（可參考相關(guān)學(xué)術(shù)刊物論文注釋體例），謝絕已發(fā)表論文（包括網(wǎng)絡(luò)發(fā)表）；

3、來稿附圖請按在文中順序編列圖版編號、標(biāo)注圖釋及圖版出處，并在文中注明圖版插入位置，切勿隨文編排；電子版圖片請存為jpg格式并在文件名中標(biāo)注尺寸，請勿存入word文檔；

4、來稿請于2013年6月30日前寄至：
地 址：浙江省杭州市下城區(qū)西湖文化廣場32號5樓西泠印社社委會藝術(shù)創(chuàng)研處（郵編310014）
聯(lián)系人：古 菲
電 話：0571-85811976 傳 真：0571-85812974
電 郵：xlyscyc@126.com

西 泠 印 社
二○一三年二月